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村田製作所 横浜市「みなとみらい21地区」における研究開発拠点の設立について

2017/06/26

株式会社村田製作所
代表取締役社長 村田恒夫

要旨

株式会社村田製作所(以下、村田製作所)は、神奈川県横浜市みなとみらい21地区に新たに研究開発拠点を設立することになりましたのでお知らせいたします。

背景

村田製作所は、顧客価値の向上と持続的な成長を実現するべく、通信市場を中心とした既存事業に加え、自動車、エネルギー、ヘルスケア・メディカルといった注力市場向けやIoT向けに新たな価値創出を進めています。
今後、これらの新しい事業への取り組みを一層推進するため、横浜市みなとみらい21地区に新たに研究開発拠点を設立することを決定いたしました。
これにより、研究開発環境を充実させ外部との連携も積極的におこない、グローバルのお客様への新たな価値提供を促進してまいります。

設立予定地の概要

みなとみらい21地区 47街区
敷地面積:7,415㎡(約2,200坪)

ムラタについて

村田製作所はセラミックスをベースとした電子部品の開発・生産・販売を行っている世界的な総合電子部品メーカーです。独自に開発、蓄積している材料開発、プロセス開発、商品設計、生産技術、それらをサポートするソフトウェアや分析・評価などの技術基盤で独創的な製品を創出し、エレクトロニクス社会の発展に貢献していきます。

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